PfeifferZastosowanie pomp molekularnych w liniach produkcyjnych szkła o niskim promieniowaniu (LOW-E)
LOW-E to szkło o niskiej emisji. W stosunku do szkła odbijającego ciepło jest to nowy rodzaj szkła energooszczędnego. Obecnie powszechne zastosowanie technologii powłoki próżniowej magnetronowej (metoda offline) do produkcji szkła Low-E. Sprzedaż niemieckiej firmy PfeifferPompa molekularnaPomyślne zastosowanie do tego.

ZasadaSzkło jest umieszczone pionowo na półce, dostarczane do środowiska próżniowego o wielkości 10-1 Pa, dostarczane do odpowiedniej ilości gazu procesowego (gazu bezczynnego Ar lub gazu reaktywnego O2, N2) i utrzymywanie stabilności próżni. Cel Ag, Si itp. jest osadzony w katodzie i umieszczony w polu magnetycznym w poziomym kierunku pionowym do katody, tworząc tym samym cel magnetron. Magnetron jako cel katody, w połączeniu z prądem stałym lub prądem zmiennym, pod wpływem wysokiego napięcia, gaz procesowy jest jonizowany, tworząc plazmę. Elektrony, pod wspólnym działaniem pól elektrycznych i magnetycznych, przeprowadzają ruch spiralny o wysokiej prędkości, zderzają się z cząsteczkami gazu i wytwarzają więcej pozyjonów i elektronów; Pozycyjne jony w działaniu pola elektrycznego, po osiągnięciu pewnej energii uderzają w cel katodowy, a cel rozpylany jest osadzony na szklanej podłodze tworząc cienką folię. Aby utworzyć jednorodną warstwę membranową, cel katodowy porusza się w pobliżu powierzchni szklanej. Aby uzyskać wielowarstwową membranę, należy użyć wielu katod, z których każda jest przenoszona do tyłu na powierzchni szklanej, tworząc pewną grubość membrany.

PFEIFFER z Niemiec dzięki ponad 120-letniemu doświadczeniu w produkcji próżniowej oraz serwisowi posprzedażnemu i wsparciu technicznemu na całym świecie zdobył korzyści klientów na rynku LOW-E, w Niemczech. Von Ardenne jest najbardziej typowym klientem. PFEIFFERPompa molekularnaLinia produkcyjna LOE-E jest używana w Sinyi Glass, South Glass i innych chińskich szklanych gigantów.
PfeifferPompa molekularnaZalety:

• Wielokrotna prędkość pompowania do wyboru przez klienta, od 1000 do 2000 l/s
• Dla H₂, He i Ar, CF₄Wysoka prędkość pompowania.
• Pozycja montażu od 0 do 90 stopni, 90 do 180 stopni
• Wysoki przepływ gazu, nawet w Ar, CF₄
• Zintegrowany napęd TC 1200 do bezpośredniego podłączenia do zasilania
• Odporność na korozję do wyboru
• Bogaty interfejs: RS-485 oraz zdalne sterowanie; Profibus lub Devicenet do wyboru
• Klasy IP 54 i Semi S2
• Stabilne i bezpieczne łożyska rotorowe
• Zgodne z certyfikatami UL, CSA i TUV
• Łatwa instalacja