Plazmowy katalizator UVCharakterystyka wydajności:
1. "Plazmy niskotemperaturowe" urządzenia należą do produktów wysokiej technologii, wysoki stopień automatyzacji, prosty proces, prosta i wygodna obsługa. Bez osobistej opieki, automatyczny alarm w przypadku awarii.
Oszczędność energii: niskie koszty eksploatacji to jedna z podstawowych technologii "plazmy niskotemperaturowej", która przetwarza zapach 5000M3 / h, zużycie energii wynosi tylko 1000W.
Szeroki zakres adaptacji: w środowisku o wysokiej temperaturze 350 ° C i niskiej temperaturze -20 ° C strefa oczyszczania może działać, zwłaszcza w środowisku z wilgotnością, a nawet nasyconym powietrzem.
4, długa żywotność sprzętu: Ten sprzęt składa się ze stali nierdzewnej, miedzi, żywicy epoksydowej i innych materiałów, silna odporność na utlenianie, w gazie kwasowym. Żywotność do ponad 10 lat.
Napięcie używane w urządzeniu "plazmy niskiej temperatury" jest poniżej 36 woltów, bezpieczne i niezawodne, nie stwarza szkody dla organizmu ludzkiego.
Mechanizm usuwania zanieczyszczeń przez katalizator fotolizy UV plazmowej:A. Rozkład plazmy:
1, niskotemperaturowe zanieczyszczenia rozkładane przez plazmę to wykorzystanie zanieczyszczeń w cząsteczkach aktywnych, takich jak wysokoenergetyczne elektrony, wolne rodniki i gazy spalinowe, dzięki czemu cząsteczki zanieczyszczeń rozpadają się w krótkim czasie i następują różne reakcje w celu osiągnięcia celu rozkładania zanieczyszczeń.
Oczyszczacze odpadów organicznych plazmowych serii HPDU wykorzystują absorpcję - rozkład - węglowanie - nową technologię procesu, zastosowanie standardowej konstrukcji modułu i innych zalet, jest sprzętem do oczyszczania odpadów organicznych w sposób suchy. Zmienił technologię procesu wykorzystywania materiałów węgla aktywnego, bez potrzeby przetwarzania surowców, bez osobistej odpowiedzialności, bez zanieczyszczenia wtórnego, łatwa wymiana i konserwacja (można wymienić operacje konserwacyjne w normalnych warunkach pracy urządzenia).
Produkty oczyszczaczy odpadów organicznych typu HPDU, bez zwiększenia odporności na wiatr sprzętu pompowego, łatwa instalacja, może być produkowana w grupie zgodnie z wymaganiami środowiska klienta, ułatwiając transport i instalację. Kompaktowa konstrukcja sprzętu, niskie inwestycje, łatwa obsługa, produkty są wykonane ze standardowych materiałów lub wykonane ze stali nierdzewnej, objętość powietrza jest 5000 ~ 50000 m3 / h;
Oczyszczacz odpadów organicznych plazmowych jest obecnie sprzętem do przetwarzania zanieczyszczeń przemysłowych odpadów organicznych, przy użyciu impulsowego zasilania plazmowego wysokiego ciśnienia i urządzeń do rozładunku płyty zębowej, dzięki czemu produkuje aktywne wolne rodniki o wysokiej wytrzymałości, wysokim stężeniu i wysokiej energii elektrycznej, w czasie milisekund natychmiastowa reakcja utleniania i redukcji szkodliwych cząsteczek odpadów, większość zanieczyszczeń w odpadach rozkłada się na dwutlenek węgla i wodę oraz łatwe do przetwarzania substancje. Wykorzystując silną utlenialność i wysoką adsorpcyjność utleniacza katalitycznego, ciągle wykonujemy reakcję utleniającą katalityczną na nieoczyszczone zanieczyszczenia i wytworzone substancje w plazmie, dzięki czemu szkodliwe gazy spalinowe są oczyszczone po wielu stopniach.
Nowy projekt strukturalny łączy urządzenie do wytwarzania plazmy niskotemperaturowej i urządzenie do utleniania fotokatalitycznego organicznie w tym samym urządzeniu oczyszczającym, ograniczając wydajność złożonego oczyszczania, dzięki czemu spełnia wymogi projektowe dotyczące małej powierzchni, lekkiej wagi, niskiego zużycia energii i wysokiej wydajności.
B. Strefa fotolizy UV:
1, strefa fotolizy, po wielopomponowym oczyszczeniu, aby osiągnąć standardowe emisje, wykorzystując specjalnie opracowane promienie UV o wysokiej energii ozonu do promieniowania gazów niepożądanych, zmieniając strukturę łańcucha cząsteczkowego gazów niepożądanych, aby łańcuch cząsteczkowy związków niepożądanych polimerów organicznych lub nieorganicznych, w promieniowaniu promieniowaniem UV o wysokiej energii, degradacja przekształca się w związki niskochłoneczkowe, takie jak CO2, H2O itp.
Wykorzystanie promieni UV o wysokiej energii ozonowej do rozkładu cząsteczek tlenu w powietrzu produkuje wolny tlen, czyli aktywny tlen, z powodu nierównowagi dodatnich i ujemnych elektronów w wolnym tlenie, więc należy łączyć się z cząsteczkami tlenu, a następnie wytwarzać ozon.
UV + O₂ → O - + O * (aktywny tlen) O + O₂ → O₂ (ozon), dobrze wiadomo, że ozon ma silny wpływ utleniający na substancje organiczne, natychmiastowy wpływ na gazy nieprzyjemne i inne zapachy podrażające.
Po wprowadzeniu do tego urządzenia oczyszczającego, sprzęt oczyszczający wykorzystuje wysokoenergetyczne promienie UV i ozon do reakcji utleniającej współpracy rozpadu gazu niepożądanego, aby substancja niepożądanego gazu została przekształcona w związki niskochłoneczkowe, wodę i dwutlenek węgla, a następnie usunięta na zewnątrz przez rurociąg wydechowy.
Utrzymanie i uwagi dla katalizatora plazmowego UV
Instalacja urządzeń do katalizacji fotolizy UV plazmowej jest ściśle zgodna z wymaganiami naszej firmy, przed wejściem do urządzeń należy ustawić urządzenie do filtrowania pyłu i powietrza, aby uniknąć uszkodzenia urządzeń przez wejście pyłu i efekt przetwarzania nie spełnia standardów;
2, Plazma UV katalizator maszyny w jednym urządzeniu, jeśli jest zainstalowany na zewnątrz, _ Ustawienie szaty deszczowej, aby zapobiec uszkodzeniu sprzętu przez wodę deszczową;